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UV干式光清洗特點(diǎn)

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文章出處:萬(wàn)志宇責(zé)任編輯:HE 發(fā)表時(shí)間:2016-09-23 15:00:00

UV干式光清洗特點(diǎn):

1、大氣中處理,簡(jiǎn)單方便,環(huán)保無(wú)二次污染,無(wú)需加熱、藥液等處理。

2、清潔度極高,單分子層以下,可以得到從來(lái)處理方法難以想象的清潔度、接著性

3、國(guó)內(nèi)獨(dú)有的超高出力短波長(zhǎng)紫外線光源,僅需短時(shí)間(秒單位)照射,發(fā)揮強(qiáng)大的處理能力,從實(shí)驗(yàn)室進(jìn)入實(shí)用。

4、不對(duì)材料的表面產(chǎn)生損傷。

5、相對(duì)于濕式清洗或等離子清洗成本低。

6、沒(méi)有液體表面張力的影響,超微細(xì)部的清洗容易。